Nanolithography and Surface Microscopy with Electron Beams
Sorozatcím: Advances in Imaging and Electron Physics; 231;
-
20% KEDVEZMÉNY?
- A kedvezmény csak az 'Értesítés a kedvenc témákról' hírlevelünk címzettjeinek rendeléseire érvényes.
- Kiadói listaár EUR 175.00
-
74 235 Ft (70 700 Ft + 5% áfa)
Az ár azért becsült, mert a rendelés pillanatában nem lehet pontosan tudni, hogy a beérkezéskor milyen lesz a forint árfolyama az adott termék eredeti devizájához képest. Ha a forint romlana, kissé többet, ha javulna, kissé kevesebbet kell majd fizetnie.
- Kedvezmény(ek) 20% (cc. 14 847 Ft off)
- Kedvezményes ár 59 388 Ft (56 560 Ft + 5% áfa)
Iratkozzon fel most és részesüljön kedvezőbb árainkból!
Feliratkozom
74 235 Ft
Beszerezhetőség
Megrendelésre a kiadó utánnyomja a könyvet. Rendelhető, de a szokásosnál kicsit lassabban érkezik meg.
Why don't you give exact delivery time?
A beszerzés időigényét az eddigi tapasztalatokra alapozva adjuk meg. Azért becsült, mert a terméket külföldről hozzuk be, így a kiadó kiszolgálásának pillanatnyi gyorsaságától is függ. A megadottnál gyorsabb és lassabb szállítás is elképzelhető, de mindent megteszünk, hogy Ön a lehető leghamarabb jusson hozzá a termékhez.
A termék adatai:
- Kiadó Academic Press
- Megjelenés dátuma 2024. október 30.
- ISBN 9780443314629
- Kötéstípus Keménykötés
- Terjedelem406 oldal
- Méret 228x152 mm
- Súly 790 g
- Nyelv angol 641
Kategóriák
Hosszú leírás:
Nanolithography and Surface Microscopy with Electron Beams, Volume 231 merges two long-running serials, Advances in Electronics and Electron Physics and Advances in Optical and Electron Microscopy. The series features articles on the physics of electron devices (especially semiconductor devices), particle optics at high and low energies, microlithography, image science, digital image processing, electromagnetic wave propagation, electron microscopy, and the computing methods used in all these domains. Specific chapters cover Introduction to inverse problems in electron microscopy, Directional sinogram inpainting for limited angle tomography, Strain tomography of crystals, FISTA with adaptive discretization, Total variation discretization, and Reconstruction with a Gaussian Dictionary.
TöbbTartalomjegyzék:
Introduction and Summary
Lord Broers
1. Early life
Lord Broers
2. Modification of an SEM/Ion beam system to improve the resolution and reliability of the SEM and remove oxygen ions from the ion beam
Lord Broers
3. Formation of cones and ridges on ion-etched surfaces
Lord Broers
4. Microfabrication in an SEM
Lord Broers
5. High Resolution Short Focal Length Lens Electron Probe
Lord Broers
6. Low-Loss Surface Microscopy in short focal length Probe
Lord Broers
7. Microfabrication in the 5? electron probe
Lord Broers
8. Nanodevices fabricated in the HR Probe
Lord Broers
9. Fabrication of Structures with Dimensions Below 10 nm
Lord Broers
10. Semiconductor Lithography and Processing
Lord Broers
11. Nanolithography at 400kV
Lord Broers
12. Last twenty years and future of semiconductor chips
Lord Broers
